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    电子级超纯水设备-工业电子用水标准和工艺


         
          中国国家电子超纯水规格GB/T1146.1-1997电子级水的技术指标应符合表中的规定。

    级别/指标 

    EW-I

    EW-II

    电阻率MΩ.cm25℃)

    18以上(95%时间)不低于17

    1595%时间)不低于13

    硅≤μg/l

    2

    10

    >1μM微粒数≤个/ml

    0.1

    5

    细菌个数≤个/ml

    0.01

    0.1

    铜≤μg/l

    0.2

    1

    锌≤μg/l

    0.2

    1

    镍≤μg/l

    0.1

    1

    钠≤μg/l

    0.5

    2

    钾≤μg/l

    0.5

    2

    氯≤μg/l

    1

    1

    硝酸根≤μg/l

    1

    1

    磷酸根≤μg/l

    1

    1

    硫酸根≤μg/l

    1

    1

    总有机碳≤μg/l

    20

    100


          电子级超纯水设备常用工艺(水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)
          1.预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象 
          2.预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象 
          3.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化系统水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象 
          4.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

    电子级超纯水设备-工业电子用水标准和工艺


    电子级超纯水设备应用场合:
    1.GMP纯化水半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
    2.超纯材料和超纯化学试剂;
    3.实验室和中试车间;
    4.汽车表面抛光处理

    5.其他高科技精微产品。



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    本文关键词:  电子级超纯水设备   EDI超纯水设备   工业电子用超纯水设备
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